Sparger titanique poreux de gaz de tube de 0.45µm pour des réacteurs chimiques
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Sparger titanique poreux de gaz de tube de 0.45µm pour des réacteurs chimiques

Sparger titanique poreux de gaz de tube de 0.45µm pour des réacteurs chimiques

Structure microporeuse uniforme pour un bouillonnement homogène
Faible chute de pression avec un débit de gaz élevé
Compatibilité totale avec Extreme Media
Construction frittée robuste avec résistance à la fatigue
Nettoyer la surface passive sans contamination
Modularité Plug-and-Play pour une maintenance facile
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Présentation du produit

Ce produit est un tube de distribution de gaz en titane poreux fritté de haute-pureté et précision-, conçu pour répondre au besoin critique d'un mélange efficace de gaz-liquide et d'un transfert de masse dans des environnements chimiques exigeants. Sa valeur fondamentale réside dans une structure de pores uniforme de 0,45 microns contrôlée avec précision, qui équilibre de manière optimale le débit de gaz, l'homogénéité de la distribution et la résistance mécanique pour fournir un composant central fiable pour les opérations de processus continues.

 

Conçu pour la synthèse chimique avancée, le traitement pharmaceutique et l'hydrométallurgie, ce composant répond aux exigences de service sévères de ces industries. La construction en titane pur offre une résistance exceptionnelle aux milieux extrêmement corrosifs, y compris l'acide chlorhydrique concentré bouillant et les solutions riches en chlorure-. Il résout efficacement les défis courants de l'industrie liés à la sensibilité de l'acier inoxydable aux piqûres et aux limitations des composants à base de polymère-en matière de résistance à la température et de risque de contamination du produit. En tant qu'élément de dispersion du cœur des réacteurs ou des systèmes d'aération, il améliore non seulement la cinétique et la sélectivité des réactions, mais réduit également considérablement les temps d'arrêt et les coûts de maintenance associés aux défaillances dues à la corrosion des équipements, servant ainsi de composant technologique clé pour l'intensification des processus et la stabilité de la production.

Spécifications des produits

 

Matériel: Titane pur

Diamètre: 150mm

Longueur : 100 mm

Taille des pores : 0,45 µm

Technique : Frittage

 

Description des produits

Structure microporeuse uniforme pour un bouillonnement homogène

La structure de pores isotrope de 0,45 µm, contrôlée avec précision, garantit la génération de microbulles avec une distribution de taille étroite, éliminant ainsi la canalisation et la formation de grosses bulles.

045m Titanium Gas Sparger for Chemical Reactors
045m Porous Titanium Gas Sparger for Chemical Reactors

Faible chute de pression avec un débit de gaz élevé

La conception tubulaire poreuse optimisée permet une dispersion fine des bulles tout en maintenant une perte de pression opérationnelle minimale, en réduisant la consommation d'énergie et en prenant en charge une capacité de gaz plus élevée.

Compatibilité totale avec Extreme Media

La résistance inhérente à la corrosion du titane pur permet une stabilité à long terme dans des environnements difficiles, notamment des acides chauds, des chlorures et des agents oxydants, dépassant les limites des matériaux conventionnels.

045m Porous Titanium Tube Gas Sparger for Chemical Reactors
045m Porous Titanium Tube Gas Sparger

Construction frittée robuste avec résistance à la fatigue

Lié métallurgiquement par frittage, le tube offre une résistance mécanique et une résistance aux chocs thermiques élevées, surpassant les éléments non-métalliques ou fibreux en termes de durabilité en fonctionnement cyclique.

Nettoyer la surface passive sans contamination

La couche d'oxyde passive stable empêche la libération d'ions et la perte de particules, ce qui la rend idéale pour les processus sensibles à l'encrassement tels que la synthèse de haute-pureté et les applications biopharmaceutiques.

045m Titanium Tube Gas Sparger for Chemical Reactors
Porous Titanium Tube Gas Sparger for Chemical Reactors

Modularité Plug-and-Play pour une maintenance facile

La géométrie et les interfaces tubulaires standards permettent une intégration rapide, une mise à l'échelle modulaire et une maintenance en ligne-, améliorant considérablement la maintenabilité du système et la flexibilité opérationnelle.

Applications de produits

 

Section de mélange gazeux-liquide dans les microréacteurs à flux continu :Sert d'unité de dispersion de gaz in situ, permettant une distribution uniforme des microbulles et un contact interfacial supérieur pour un transfert de masse amélioré dans les processus continus d'hydrogénation, d'oxydation et de carbonylation.

 

Tube de distribution pour systèmes de lavage humide de gaz spéciaux :Disperse avec précision les agents de nettoyage en fines gouttelettes, permettant d'éliminer les impuretés au niveau de l'ordre du ppb-dans la purification des gaz de qualité électronique-pour la fabrication de semi-conducteurs et de fibres optiques.

 

Chambre anodique dans les réacteurs électrochimiques à oxydation avancée :Agit comme une barrière poreuse et conductrice qui facilite le traitement des eaux usées tout en protégeant les électrodes de l'encrassement, prolongeant ainsi considérablement la durée de vie du système dans le traitement des effluents industriels.

 

Générateur de rideau de gaz dynamique pour la protection de l'atmosphère inerte :Crée des environnements stables et localisés sans oxygène-grâce à une émission à flux laminaire contrôlée, fournissant-une isolation de l'atmosphère économe en énergie pour le traitement des matériaux sensibles et le soudage de haute-précision.

 

Interface de surveillance des gaz en ligne pour les fermenteurs microbiens :Permet-l'analyse des gaz métaboliques en temps réel en permettant une diffusion sélective des gaz dans les instruments d'analyse tout en fournissant une barrière physique absolue contre la contamination liquide et microbienne.

 

Unité d'homogénéisation des vapeurs de précurseurs pour le dépôt de-couches minces :Garantit une distribution spatiale uniforme des vapeurs de précurseurs dans les systèmes ALD et CVD, offrant une épaisseur et une composition de film constantes sur de grandes-substrats dans les applications de revêtement avancées.

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