L'anneau de purification de gaz en titane poreux fritté est produit selon un processus de frittage précis, créant une matrice poreuse métallique uniforme et stable. Il permet une purification et une adsorption fiables des gaz dans des environnements à haute-température, haute-pureté ou sous vide. Les pores uniformément répartis permettent un passage fluide des gaz tout en capturant efficacement les traces de contaminants, garantissant ainsi une atmosphère propre et stable au sein du système. Avec une excellente résistance à la corrosion et une excellente intégrité mécanique, il maintient des performances constantes tout au long d'un fonctionnement à long terme-.

Cet anneau de purification est largement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, le revêtement sous vide, la distribution de gaz de haute pureté-et les systèmes de laboratoire de recherche pour éliminer l'oxygène, l'humidité et d'autres impuretés réactives. Sa structure frittée robuste offre une durabilité et une réutilisabilité exceptionnelles, offrant une solution fiable et efficace pour maintenir la pureté du gaz dans les applications industrielles et scientifiques exigeantes.

Spécifications des produits

Matériau: poudre de titane GR1

Diamètre extérieur : 10,0 mm

Diamètre intérieur: 6,0 mm

Hauteur : 2,0 mm

Taille des pores : 50-60 um

Technologie : Frittage

Caractéristiques des produits

Construction frittée intégrée
Le produit est formé par un processus de frittage de poudre métallique en une seule étape-, créant un réseau poreux interconnecté tridimensionnel-. Il ne nécessite aucun cadre de support ni agent de liaison, éliminant ainsi complètement le risque de contamination secondaire.

Composition de titane de haute-pureté
Fabriqué à partir de poudre de titane de haute-pureté et de volatilité extrêmement faible, le processus de production n'introduit aucun additif non métallique, garantissant ainsi une sécurité et une propreté absolues dans les environnements opérationnels sensibles.

Distribution uniforme des pores
Les pores internes sont uniformément répartis et entièrement interconnectés, offrant une résistance à l'écoulement stable et une chute de pression prévisible. Cette cohérence offre une grande fiabilité dans la conception des fluides et les performances du système.

Stabilité structurelle à long-terme
Lors d'un flux de gaz continu, l'anneau conserve sa forme et sa porosité sans perte ni effondrement de particules. Cette stabilité permet des performances de purification fiables et durables sur des périodes de service prolongées.

Facilité d'intégration du système
Sa configuration en forme d'anneau-permet une intégration facile dans diverses conduites de gaz, chambres scellées ou accessoires mécaniques. La conception simple de l'installation améliore l'adaptabilité et l'efficacité dans divers systèmes d'ingénierie.

candidatures

Gestion de l'atmosphère dans les chambres de traitement des semi-conducteurs
Élimine activement les traces d'humidité et d'oxygène des gaz ambiants dans les outils de CVD et de gravure, en maintenant un environnement de traitement ultra-pur pour améliorer le rendement et les performances de fabrication des puces.

Affinement du flux gazeux pour les systèmes de revêtement à couche mince-
Intégré aux conduites d'entrée de gaz des équipements d'évaporation et de pulvérisation par faisceau électronique, il élève la pureté du gaz d'entrée pour garantir une uniformité, une densité et une adhérence supérieures du revêtement.

Conditionnement ultra-propre des gaz vecteurs pour l'instrumentation analytique
Sert d'étape de purification finale pour les gaz vecteurs dans les systèmes GC et MS, éliminant les interférences de fond pour garantir une précision de mesure et une intégrité des données maximales.

Purification du gaz de protection dans les applications de soudage de précision
Purifie l'argon et les autres gaz de protection utilisés dans le soudage au laser et au faisceau électronique, empêchant ainsi l'oxydation à haute température du bain de fusion pour obtenir des soudures impeccables et à haute intégrité.

Obtention de gaz traces dans les configurations de recherche avancées
Déployé dans des systèmes de synchrotron et d'accélérateur de particules pour adsorber les molécules dégazées par les composants internes, contribuant ainsi à l'obtention et à la préservation de conditions de vide-extrêmement élevées.

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Anneau de purification de gaz en titane poreux fritté

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