Le getteur colonnaire est un composant fonctionnel non évaporatif utilisant le titane comme principal matériau actif. Fabriqué par un procédé de métallurgie des poudres et de frittage, il présente une forme géométrique définie et une résistance mécanique élevée. Dans un environnement sous vide, il absorbe chimiquement les gaz actifs tels que l'hydrogène, l'oxygène, l'azote et le monoxyde de carbone. En formant des composés chimiques stables avec ces molécules gazeuses, le getteur en titane purifie continuellement l'atmosphère résiduelle, contribuant ainsi à maintenir la stabilité du vide sur le long terme.

Grâce à l'activité thermodynamique du titane, l'élément s'active et assure sa fonction d'adsorption sous des conditions de température spécifiques. Sa géométrie colonnaire facilite l'installation dans les chambres à vide, ce qui le rend adapté aux équipements industriels nécessitant des niveaux de vide constants. Grâce à ses propriétés physiques et chimiques stables, ce getteur garantit un fonctionnement fiable et durable dans divers environnements de travail, constituant un élément essentiel pour la performance à long terme des systèmes à vide.

Spécifications du produitscription

Matériau : Titane Gr1
Diamètre : 9 mm
Longueur : 20 mm
Taille des pores : 20 µm
Procédé : frittage (sintering)

Maintien du vide
Absorbe en continu les molécules de gaz réactifs dans les chambres scellées, empêchant l'accumulation d'atmosphères résiduelles qui pourraient perturber le processus, et garantissant ainsi des conditions de vide propre pour le fonctionnement de l'équipement.

Amélioration de la stabilité des équipements
Réduit la pression partielle des gaz d'impuretés dans les chambres, limitant les effets indésirables tels que les décharges gazeuses et l'oxydation des électrodes, afin de préserver la stabilité du fonctionnement.

Compatibilité avec différents processus
La géométrie colonnaire permet une installation flexible dans divers modèles de chambres à vide, sans modifier la disposition interne des équipements ni perturber la circulation des gaz.

Durée de service prolongée
Le matériau du getteur conserve une activité d'adsorption stable pendant toute sa durée d'utilisation, répondant efficacement aux différentes conditions de fonctionnement, y compris les dégazages lents et les cycles d'utilisation intermittents.

Assurance d'une atmosphère gazeuse pure
Réduit efficacement la concentration des gaz actifs dans les chambres, limitant l'impact des impuretés sur la qualité des processus et garantissant un environnement gazeux stable pour les applications laser ou les procédés de fabrication de semi-conducteurs.

Polyvalence d'utilisation
Convient à une large gamme d'équipements industriels nécessitant des conditions de vide, et compatible avec différents types de systèmes de vide et d'exigences d'application.

Applications

Équipements pour semi-conducteurs
Adsorbe les gaz résiduels dans les chambres de gravure et de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD), afin de maintenir un environnement de procédé stable.

Lasers industriels
Élimine les gaz impurs dans les cavités laser CO₂ et excimères pour maintenir la puissance de sortie du faisceau.

Systèmes de revêtement sous vide
Capture les gaz résiduels dans les machines de dépôt optique et les systèmes de pulvérisation cathodique pour améliorer la pureté et l'adhérence des couches déposées.

Tubes à rayons X
Intégré dans les tubes des scanners CT médicaux et les tubes d'inspection industrielle pour éviter les décharges électriques et prolonger la durée de vie du dispositif.

Microscopes électroniques
Installé dans les chambres d'échantillons des microscopes SEM et TEM pour absorber les dégazages et préserver la résolution d'image.

Systèmes de recherche sous vide
Utilisé dans les installations de vide ultra‑élevé (UHV) pour assister les pompes principales à maintenir un vide extrême lors d'expériences de longue durée.