cartouche filtrante titanique poreuse 1um pour le traitement humide des semi-conducteurs

La cartouche filtrante poreuse en titane de 1 µm pour le traitement humide des semi-conducteurs offre une rétention absolue des particules dans les environnements chimiques agressifs où les membranes polymères gonflent ou se dégradent. Fabriqué à partir de poudre de titane industrielle de haute pureté supérieure ou égale à 99,4 % par pressage isostatique à froid et frittage sous vide à haute température, ce filtre fritté en poudre métallique permet d'obtenir une structure microporeuse uniforme avec une porosité allant de 30 -40 % et une distribution étroite de la taille des pores. Dans la filtration de décarbonation de la production pharmaceutique API, le filtre à tige en titane fritté de 1 μm capture les fins résidus de charbon actif et les fines de catalyseur des liqueurs mères à haute viscosité, avec une capacité de lavage à contre-courant réutilisable prolongeant la durée de vie plusieurs fois au-delà des alternatives à membrane. La fabrication de semi-conducteurs par voie humide intègre des filtres frittés en poudre de titane de 1 µm dans les lignes de distribution de produits chimiques pour les flux SC-1, SC-2, 49 % HF et HNO₃, où le substrat en titane résiste aux piqûres provenant d'environnements riches en chlorures qui corrodent les nuances d'acier inoxydable. La précision de 1 um élimine les particules submicroniques contenant du silicium et les contaminants métalliques sans rejet de particules, maintenant ainsi la pureté du filtrat requise pour le traitement des tranches à l'échelle nanométrique.

Les applications en boucle de traitement de l'eau de haute pureté-déploient une cartouche filtrante en titane poreux de 1 µm pour le traitement humide des semi-conducteurs comme filtration de sécurité finale avant les systèmes d'ultrafiltration et d'EDI, où l'élément fritté en poudre de titane résiste à la stérilisation périodique à l'ozone et aux cycles de vapeur-en place-jusqu'à 280 degrés dans des conditions humides. Contrairement aux filtres en profondeur en polypropylène ou aux cartouches à membrane en PTFE qui ramollissent ou se délaminent sous l'effet d'un cycle thermique, la matrice en titane fritté sous vide-conserve son intégrité dimensionnelle sur la plage de pH 1-14 et résiste à des pressions différentielles allant jusqu'à 5,0 bars sans effondrement de la structure des pores. Les boucles de polissage des boues CMP dans les usines de fabrication avancées utilisent des cartouches filtrantes en titane de 1 μm après les étapes d'adsorption de résine pour piéger les particules abrasives surdimensionnées agglomérées tout en préservant la distribution granulométrique des boues de silice colloïdale ou de cérium. La caractéristique de non--particules et la régénérabilité en ligne via un rétrolavage ou un nettoyage par ultrasons permettent une réutilisation répétée, réduisant ainsi la fréquence de remplacement des filtres et les coûts d'exploitation dans les opérations continues sur banc humide de semi-conducteurs.

Indice de filtration de précision – La cartouche filtrante en titane poreux de 1 um offre une rétention absolue-des particules dans les lignes de traitement humide des semi-conducteurs, éliminant les résidus de silicium submicroniques, les contaminants métalliques et les particules de type gel-des produits chimiques agressifs, notamment HF, HNO₃, SC-1 et SC-2, sans percée du média.

Résistance à la corrosion dans des plages de pH extrêmes – Fabriquée à partir de poudre de titane de haute pureté supérieure ou égale à 99,4 % via frittage sous vide, cette cartouche filtrante en titane fritté résiste aux environnements de pH 1 à 14, résistant aux piqûres et aux attaques de chlorure qui dégradent rapidement les filtres en acier inoxydable ou en Hastelloy dans les systèmes de distribution de produits chimiques sur banc humide.

Haute stabilité thermique pour les cycles DIW et SIP chauds – Le filtre fritté en poudre de titane supporte un fonctionnement continu à 280 degrés dans des conditions humides, prenant en charge la stérilisation à la vapeur-sur-sur place (SIP) et les rinçages à l'eau chaude déminéralisée sans adoucir, délaminer ou lessiver les éléments extractibles communs aux cartouches à membrane en polypropylène ou en PTFE.

No particle shedding – Unlike depth filters or wound cartridges, the rigid sintered metal structure eliminates fiber release or media migration, maintaining ultrapure filtrate essential for nanometer-scale wafer fabrication where any foreign particle >0,5 μm provoque des défauts fatals de l'appareil.

Excellente régénérabilité par lavage à contre-courant – La cartouche filtrante en titane poreux de 1 µm prend en charge le rinçage à contre-courant en ligne, le nettoyage par ultrasons et la régénération acide, éliminant les solides capturés et rétablissant les débits initiaux sur des dizaines de cycles de réutilisation, réduisant considérablement la fréquence de remplacement de la cartouche et les coûts d'exploitation dans les usines de production à grand volume.

Tolérance élevée de pression différentielle – La matrice en titane fritté sous vide- maintient l'intégrité de la structure des pores sous des pressions différentielles allant jusqu'à 5,0 bar, surpassant ainsi les filtres à membrane qui s'effondrent ou se rompent lors de flux de montée subite ou d'événements de colmatage dans les équipements de traitement par voie humide des semi-conducteurs.

Lignes de distribution de produits chimiques de haute pureté dans les usines de fabrication de plaquettes – Installée dans des boîtiers de filtre au point d'utilisation (POU) pour les flux à 49 % de HF, HNO₃, NH₄OH, H₂SO₄ et HCl, la cartouche filtrante en titane fritté de 1 um élimine les particules métalliques submicroniques et la poussière de silicium avant les bancs humides et les processeurs de tranches uniques.

Boucles de recirculation d'eau désionisée ozonée (DIO₃) – Appliquées comme filtration de sécurité dans les outils de nettoyage post-CMP et de décapage de photorésist. La cartouche en titane poreux de 1 um résiste à des concentrations d'ozone jusqu'à 20 ppm et à une exposition continue aux UV, où les filtres en polypropylène se fragilisent et les membranes en PTFE perdent leur intégrité mécanique.

CMP slurry polishing loops – final polish and bulk removal – Positioned after slurry blending tanks and before dispense arms for colloidal silica, ceria, or alumina slurries. The sintered titanium filter traps over-sized agglomerates (>1 um) tout en préservant la distribution granulométrique native et le potentiel zêta, en maintenant un taux d'élimination constant et une non-uniformité au sein de la-plaquette-(WIWNU).

Filtration de l'eau de l'épurateur de boîte à brosses Post-CMP – Installée dans les conduites d'eau déionisée alimentant les brosses PVA pour récupérer les particules abrasives résiduelles et les ions de cuivre après le polissage des plaquettes. La valeur absolue de 1 um empêche les micro-rayures sur le cuivre et les surfaces diélectriques à faible -k lors du contact avec les brosses.

Filtre de sécurité final de la boucle de polissage à l'eau ultrapure (UPW) : placé avant les vannes du point-d'utilisation-(POU) dans les stations de gravure et de rinçage humides. La cartouche filtrante en poudre de titane fonctionne dans des cycles UPW chauds (80 degrés) et périodiques de stérilisation à la vapeur sans rejet de particules, maintenant le contrôle bactérien et le nombre de particules inférieurs aux exigences de classe 1.

Bains de placage autocatalytique au nickel et au cobalt pour les couches barrières/graines – Intégrés dans les skids de purification du bain de placage pour éliminer la contamination particulaire des stabilisants et des agents complexants. La matrice en titane résistante à la corrosion-fonctionne à des températures élevées (70 à 90 degrés) et à un pH alcalin sans fragilisation par l'hydrogène ni contamination du bain.

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