Cibles de pulvérisation de titane à haute pureté

Cibles de pulvérisation en titane de haute puretésont des sources de pulvérisation qui forment divers films minces fonctionnels sur des substrats par pulvérisation magnétron, placage ionique à arcs multiples ou d'autres types de systèmes de revêtement dans des conditions de traitement appropriées. En termes simples, le matériau cible est le matériau cible bombardé par des particules chargées à grande vitesse.

Il est utilisé dans les armes laser à haute énergie. Lorsque des lasers avec différentes densités de puissance, différentes formes d'onde de sortie et différentes longueurs d'onde interagissent avec différentes cibles, ils produiront des pertes et des dommages différents. effet. Par exemple: le revêtement de pulvérisation par magnétron par évaporation chauffe le revêtement par évaporation, le film d'aluminium, etc. En remplaçant différents matériaux cibles (tels que l'aluminium, le cuivre, l'acier inoxydable, le titane, les cibles de nickel, etc.), différents systèmes de film (tels que les films d'alliage super durs, résistants à l'usure, anti-corrosion, etc.) peuvent être obtenus.

Paramètres

Fonctionnalités

1. Poids léger

2. Haute résistance spécifique

3. Résistance à la corrosion

4. Résistance aux hautes et basses températures

Applications

★Construction navale ★Placage électrolytique ★Aéronautique ★Industrie chimique ★Équipement médical

Détails

Fabriqué à partir de matières premières de haute qualité, résistant à l'usure et à la corrosion, utilisation à long terme

Pas de fissures de pelage sur la surface, pas de taches d'huile, surface latérale lisse et propre

Spécifications complètes, coupe arbitraire, prise en charge de la personnalisation non standard

La pureté du matériau cible a un effet important sur les performances du film. La pureté est l'un des indicateurs de performance ciblés.

Pureté

La pureté de la cible est l'un des principaux indicateurs de performance de la cible car la pureté de la cible affecte grandement les performances du film. Cependant, dans les applications réelles, les exigences de pureté du matériau cible ne sont pas les mêmes. Par exemple, avec le développement rapide de l'industrie de la microélectronique, la taille de la plaquette de silicium est passée de 6 ", 8" à 12 ", la largeur de câblage a été réduite de 0.5 um à 0. 25 um, 0.18 um et 0.13 um. Auparavant, la pureté cible était de 99,995 %.

Teneur en impuretés

La source principale du film déposé est l'oxygène et l'humidité des solides et des pores cibles. Les cibles pour diverses applications ont des exigences différentes pour différents niveaux d'impuretés. Par exemple, les cibles d'aluminium pur et d'alliages d'aluminium utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs ont des exigences particulières en matière de teneur en métaux alcalins et en éléments radioactifs.

Densité

Afin de réduire les pores des solides cibles et d'améliorer les performances des films pulvérisés, les cibles doivent généralement être plus denses. La densité cible affecte non seulement la vitesse de pulvérisation, mais également les propriétés électriques et optiques du film. Plus la densité cible est élevée, meilleures sont les performances du film. De plus, lorsque la densité et l'intensité de la cible sont augmentées, la cible peut résister à la contrainte thermique pendant la pulvérisation. La densité est l'un des indicateurs de performance ciblés.

Granulométrie et répartition granulométrique

Habituellement, la cible est polycristalline et la taille des particules peut être de l'ordre du micromètre au millimètre. Dans le cas de la même cible, le taux de pulvérisation de la cible à grains fins est plus rapide que le taux de pulvérisation de la cible à grains grossiers, tandis que le dépôt par pulvérisation de la cible de plus petite taille de particules (distribution uniforme) a une distribution d'épaisseur uniforme (uniforme) . Distribution.

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